自动化涂胶显影Track与集群系统

从紧凑组合设备到卡匣到卡匣全自动光刻胶处理系统

自动化程度不是越高越好,而要匹配工艺成熟度与节拍

研发阶段更看重模块独立操作与配方调整;中试和多品种小批量需要灵活传片与扩展;稳定生产则关注卡匣到卡匣、工艺联动和设备利用率。SAWATEC以Duo、ROBO和CS三条路径承接不同阶段。

SAWATEC SM-200与HP-200涂胶烘烤Duo组合系统实物
Duo 组合系统
将旋涂或显影模块与热板集成在紧凑柜体内,适合研发和试制。
SAWATEC ROBO柔性自动化涂胶显影系统实物
ROBO 柔性自动化
中央六轴洁净室机器人连接旋涂、喷涂、显影或热板模块,支持3–12英寸晶圆。
SAWATEC CS涂胶显影集群系统堆叠热板与冷板实物
CS 集群系统
模块化三工艺站与中央装载,面向卡匣到卡匣全自动应用。

三种自动化形态怎么选?

系统自动化形态典型配置适用阶段
Duo紧凑组合、人工传片SM+HP、SMD+HP、双HP等实验室、研发、试制
ROBO模块可手动运行,也可由机器人自动传片ROBO+旋涂/喷涂/显影+最多三块热板研发向中试过渡、多品种小批量
CS Cluster卡匣到卡匣全自动、中央装载预对准站+三个灵活工艺站稳定工艺、中试与生产

真实系统配置示例

CS-200-4 sirius

SM-200-CS旋涂、SMD-200-CS或SMD-200-E-CS显影/刻蚀、三块堆叠热板与一块冷板;支持3、4、6至8英寸。

CS-200-4 pioneer

以iSPRAY-200-CS喷涂替代旋涂,配显影/刻蚀及烘烤冷却站;支持3至8英寸。

CS-300系列

explorer配置SM-300-CS,orbiter配置iSPRAY-300-CS,配SMD-300与热板/冷板站;支持6、8至12英寸。

自动化涂胶显影设备选型的六项输入

工艺路线

明确涂胶或喷涂、软烘、PEB、显影、刻蚀、冷却的顺序和可选分支。

晶圆与载具

确认尺寸组合、卡匣类型、基板厚度、翘曲和机械手末端执行器需求。

产能与节拍

给出批量、目标UPH、换批频率和关键瓶颈工艺时间。

配方成熟度

仍需频繁调试的工艺宜保留单模块操作,成熟配方再扩大自动联动。

厂务与洁净室

提前确认占地、排风、供液、废液、气体、电力和维护空间。

未来扩展

评估新增模块、尺寸升级、数据接口与远程诊断,避免一次性封死路径。

先确定工艺流程,再决定Duo、ROBO或Cluster

提供流程图、晶圆尺寸、批量、节拍和自动化边界,可更快确定模块数量、布局与升级路径。

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